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中国半导体迎来好消息,国产芯片指日可待,未来可期!

发表时间:2019-10-28    责任编辑:华芯智造    

在经历过华为“无芯”可用的窘迫之后,我国半导体国产化需求更加紧迫。近日中国半导体传来好消息,中国光刻胶供应商将那拿下ASML光刻机以作为研发之用。

中国光刻胶供应商晶瑞近日公告,将通过新加坡代理商以千万美金100%预付现金向韩厂SK手上购买了ASML的光刻机设备,这令我国半导体市场相当兴奋,晶瑞股份也在当日上涨了19.99%,公司市值一天暴涨14亿。晶瑞表示,光刻机主要的用途是研究而非生产制造。

光刻机对半导体产业的重要性

半导体制程分为前期制程(主要是对晶园状态的各种工艺生产)和后期制程(主要是对切割后的晶圆进行晶片加工),工艺要求和技术难度角度来说,前期制程的难度远在后期制程之上。所以一个不足百人的中小企业略微投资些后期制程设备,在常规工厂环境就能进行半导体晶片的后期配线封装,但前期制程不仅需要多达几十种甚至几百种不同的设备,光是需要维持工厂环境的高净化度就是一笔不小的运成本,因此很多人惊呼得不到光刻机,半导体产业就完蛋了,其实给你光刻机,你没有其他配套的设备,同样无法生产半导体,缺一不可。

中科院在研究5nm芯片生产也有所突破

在全球5nm芯片生产工艺可以说是最顶端的科技,众所周知,中芯国际在7nm芯片制程上一直没有新的突破,最重要的原因就是没有拿到最先进的光刻机研究,但是好在中芯国际刚刚突破了N+1生产工艺,能够实现和7nm工艺一样的生产工艺水平

中科院在研究5nm芯片上采用的全部是自主设备,主要是在激光直刻技术和研发更先进的EUV光刻机。如果在设备还有生产技术上再取得进一步的发展,我相信未来国产芯片产业不止是在5nm上,甚至连3nm 2nm都不是问题,

此次我国购买ASML的光刻机不会直接用于研究晶圆生产,更重要的是用来研制高阶光刻胶,晶瑞表示目前在半导体材料的布局已能生产半导体级别的高纯双氧水以及高纯氨水,达到了G5水准,成功突破国外的技术垄断。

据知情人士报道,光今年我国近万家企业转投半导体,但是大多数公司还是缺乏相关经验,还在摸索的阶段。但是只要有一家企业能成功的话,就能带动整个供应链。